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Photopatterning at thick photoresist layers for MEMS applications
Auteur(s)
Roth, Sylvain
Editeur(s)
Maison d'édition
Neuchâtel : Université de Neuchâtel
Date de parution
2000
Nombre de page
120 p.
Notes
Thèse de doctorat, Sciences, Microtechnique
Identifiants
Type de publication
doctoral thesis
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